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    所謂靶材，是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在恰當工藝條件下濺射在基板上形成各種功用薄膜的濺射源。簡略來說，就是高速荷能粒子轟擊的政策材料。依據(jù)原料可分為金屬靶材、合金靶材以及陶瓷靶材，其中鈦靶材是制備PVD涂層常用的靶材之一，在磁控濺射技術中有廣泛使用。因此，鈦靶材的質量很重要，好的鈦靶材才干制備合格的PVD涂層。下面，小編為咱們同享一下影響鈦靶原料量因素有哪些吧。

一、純度

鈦靶材的純度對濺射涂層的功用影響很大。鈦靶材的純度越高，濺射鈦薄膜的中的雜質元素粒子越少，導致PVD涂層功用越好，包括耐蝕性及電學、光學功用越好。不過在實踐使用中，不同用途的鈦靶材對純度要求不一樣。靶材作為濺射中的陰極源，資猜中的雜質元素和氣孔攙雜是沉積薄膜的首要污染源。氣孔攙雜會在鑄錠無損探傷的進程中根本去除，沒有去除的氣孔攙雜在濺射的進程中會發(fā)生放電現(xiàn)象，進而影響薄膜的質量；而雜質元素含量只能在全元素剖析檢驗成果中體現(xiàn)，雜質總含量越低，鈦靶材純度就越高。

二、均勻晶粒標準

一般鈦靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級，細微標準晶粒靶的濺射速率要比粗晶粒靶快，在濺射面晶粒標準相差較小的靶，濺射沉積薄膜的厚度散布也較均勻。研討發(fā)現(xiàn)，若將鈦靶的晶粒標準控制在100μm以下，且晶粒大小的改變保持在20%以內，其濺射所得薄膜的質量可得到大幅度改善。

三、結晶取向

金屬鈦是密排六方結構，因為在濺射時鈦靶材原子簡單沿著原子六方嚴密擺放方向優(yōu)先濺射出來，因此，為達到較高的濺射速率，可通過改變靶材結晶結構的方法來增加濺射速率。鈦靶材的結晶方向對對濺射膜層的厚度均勻性影響也較大。

四、結構均勻性

結構均勻性也是調查靶原料量的重要目標之一。關于鈦靶材不僅要求在靶材的濺射平面，并且在濺射面的法向方向成分、晶粒取向和均勻晶粒度均勻性。只要這樣鈦靶材在使用壽命內，在同一時間內能夠得到厚度均勻、質量牢靠的、晶粒大小共同的鈦薄膜。

五、幾何形狀與標準

首要體現(xiàn)在加工精度和加工質量方面，如加工標準、外表平整度、粗糙度等。如設備孔視點差錯過大，無法正確設備；厚度標準偏小會影響靶材的使用壽命；密封面和密封槽標準過于粗糙會導致靶材設備后真空出現(xiàn)問題，嚴重的導致漏水；靶材濺射面粗糙化處理可使靶材外表布滿豐厚的凸起尖|端，在尖|端效應的作用下，這些凸起尖|端的電勢將大大提高，然后擊穿介質放電，但是過大的凸起關于濺射的質量和穩(wěn)定性是不利的。